电流非均匀分布对磁绝缘感应电压叠加器电子鞘层的影响

摘要：

磁绝缘感应电压叠加器(MIVA)感应腔注入电流空间非均匀分布对次级磁绝缘电子鞘层和功率流传输产生影响.本文基于磁绝缘稳态二维层流模型,分析了电流非均匀分布对MIVA次级电子鞘层的影响规律.电流非均匀分布对磁绝缘电子鞘层影响较大,但对电荷质心和磁绝缘流阻抗影响较小.对于给定磁绝缘参数(线电压V0=4.1 MV、最小阳极电流Iamin=132 kA),当阴极电流不均匀系数δc约35％时,电子鞘层不均匀系数ζ约79.4％,流阻抗减小了5.6％;当δc增大至69.5％时,电子鞘层偏心导致阴-阳间隙局部短路.在磁绝缘最小阳极电流Iamin相同时,线电压V0越低,电流非均匀分布的影响程度越显著.当线电压V0由4.2 MV降低至1.4 MV时,引发间隙局部短路的阴极电流不均匀系数由69.5％降低至35％.

关键词：磁绝缘感应电压叠加器(MIVA)、电流非均匀分布、非轴对称磁绝缘、电子鞘层

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资助基金：国家自然科学基金11505138,51577156

在线出版日期：2018-04-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：81-89