缺陷模带隙一维光子晶体的简捷制备

摘要：

提出一种制备具有缺陷模带隙光子晶体的实验技术思路.采用激光全息光刻方法,以夹角不同的两束相干光对感光物质进行两次光刻曝光,在曝光重叠区域可获得具有缺陷模带隙的一维光子晶体.调节入射光线的角度可改变缺陷模位置.研究提供了简捷制作缺陷模带隙光子晶体的一种实验技术思路,对缺陷模低阈值激射具有应用研究价值.

关键词：缺陷模光子禁带、全息光刻技术、一维光子晶体

所属期刊栏目：42

分类号：O734(晶体物理)

资助基金：国家自然科学基金10974106;11274189;山东省自然科学基金JQ201018;2009ZRA02051;山东省高等学校科技计划J09LA10

在线出版日期：2012-12-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：1012-1016