LiF修饰阴极的双层有机电致发光器件发光效率

摘要：

考虑LiF绝缘缓冲层对电子注入势垒的影响,给出了LiF/金属复合电极注入势垒的表达式;基于载流子的注入和复合过程,建立了双层有机电致发光器件发光效率的理论模型;讨论了器件效率随电压、注入势垒、内界面势垒、有机层厚度的变化关系.结果表明:(ⅰ)当δe/δh＜2时,金属/有机物(M/O)界面属于欧姆接触,当δe/δh=2时,M/O界面成为接触限制,当δe/δh=2(φh≈0.2 eV,φe≈0.3 eV)时,M/O界面存在从欧姆接触向接触限制的转变;(ⅱ)ηELδ'e/δ'h随的增大而减小,但(≈0.2 eV,＞0.4 eV),ηEL的变化趋势变得平缓,这时载流子注入对器件的ηEL起支配作用;(ⅲ)逐渐增加Lh/L比值,较低电压下ηR呈下降趋势,较高电压下ηR则呈上升趋势.当电压超过启动电压后,对于给定的Lh/L,随电压的增大,ηEL是先增加后降低,且随着Lh/L的增加,ηEL的这种变化趋势更加明显.这些都与报道的理论及实验结果相符.

关键词：电致发光效率、注入势垒、内界面势垒、LiF修饰

所属期刊栏目：37

分类号：O4(物理学)

资助基金：湖南省杰出青年科学基金03JJY1008;中国博士后科学基金2004035083;中南大学校科研和教改项目0601059

在线出版日期：2007-10-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：24-32