10.3969/j.issn.1674-7275.2004.05.005
辐射在填充介质管中输运的理论
利用二维辐射输运程序研究了辐射在填充CH和CH掺铜泡沫介质金管中的传输问题,分析了辐射在光学厚度较薄介质中的传输特征及管壁的影响.在神光-Ⅱ的辐射源条件下,理论分析发现长300 μm密度为50 mg/cm3CH泡沫柱辐射加热区域的平均光学厚度小于1.不同能量的光子群加热等离子体的位置是不同的,使得热波波阵面没有非线性热传导波温度梯度很陡的特征,电子温度分布有一前伸的"舌头",而输运介质的再发射对传输的影响不大.利用CH泡沫中掺原子比2%的Cu作为输运介质可使光学厚度提高到大于1的水平.还给出了神光-Ⅱ实验模型的数值模拟结果,理论与实验符合得很好.
辐射输运、输运管、CH泡沫、CH泡沫掺杂
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O4(物理学)
国家自然科学基金10135010;国家高技术研究发展计划863计划
2004-12-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共15页
525-539