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10.1360/SST-2020-0342

等离子体辅助原子层沉积过渡金属及其碳化物

引用
过渡金属及其碳化物薄膜现已广泛应用于微电子、能源及催化等领域.等离子体辅助原子层沉积能够产生高活性的反应粒子,具有沉积温度低、反应充分等特点,能在复杂3D结构基底上制备连续、保形的高质量过渡金属及其碳化物薄膜.本文首先介绍了等离子体辅助原子层沉积技术的基本原理,然后综述了当前等离子体辅助原子层沉积制备金属及其碳化物的研究进展,重点论述了等离子体辅助原子层沉积在降低沉积温度、缩短成核周期、增强反应活性、提高薄膜沉积速率及纯度等方面的优势,最后对该技术未来的发展进行了展望.

原子层沉积、等离子体辅助、薄膜、过渡金属、碳化物

51

国家自然科学基金批准号,51672011,51961165105

2021-08-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共11页

637-647

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11-5844/TH

51

2021,51(6)

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