碱液刻蚀的多晶硅不同晶面微结构实验研究

摘要：

多晶硅碱液刻蚀技术一直是多晶硅太阳能电池研究的关键性技术之一.在普通的碱刻蚀液中加入一种添加剂,在温度78～80℃之间刻蚀多晶硅表面20 min,用SEM观察多晶体硅表面结构.在多晶硅表面上首次观察到了碱液刻蚀出的密集均匀分布的陷阱坑,只是样品不同晶面上的陷阱坑形貌稍有不同.[100]晶面上主要由纵横交错的致密的小硅山脉构成,小硅山脉之间存在长长的峡谷式的陷阱坑(沟)；[110]晶面上密布大量的畸变三角形陷阱坑或矩形坑(洞)；[111]晶面则分布蚯蚓状的陷阱坑.用积分反射仪测量了样品表面光反射率,在400～900 nm波段平均反射率下降到20.5％.实验研究表明:添加剂能凋节碱的刻蚀特性,经过添加剂调剂的碱液能在多晶硅表面刻蚀出具有良好陷光效应的绒面,添加剂调节的碱液刻蚀技术是一种有前途的多晶硅制绒技术.

关键词：多晶硅、化学刻蚀、表面结构、陷光效应、反射率

所属期刊栏目：42

分类号：TM914.4

资助基金：上海航天基金GC072003

在线出版日期：2012-12-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：643-648