深蚀刻二元光学技术制作准分子曝光系统均匀器

摘要：

利用深蚀刻二元光学理论和技术设计并制作了用于准分子激光器曝光系统的深蚀刻二元光学均匀器. 与原来使用的积分均匀器(石英棒列阵)相比,该均匀器具有重量轻,安装调控方便,光能利用率高,光束均匀性好等特点. 对该器件的设计性能和参数进行了研究、分析和计算机模拟;在高精度台阶仪上对所制作的深蚀刻二元光学均匀器进行了精密检测;用深蚀刻元件制作误差理论并引入"边界误差"概念,对元件的表面浮雕检测结果进行了深入的分析. 理论与实验结果符合得很好.

关键词：深蚀刻、二元光学、元件、均匀器、误差分析

所属期刊栏目：30

分类号：TN2(光电子技术、激光技术)

资助基金：广东省深圳市科技计划

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：510-518