等离子体反应腔中电磁场的边缘效应

摘要：

在等离子体反应腔内，边缘效应一直是造成等离子体分布不均匀性的重要原因之一。而等离子体分布不均匀性一直是影响基片处理的质量和产品良率的重要因素。本文试图从解决反应腔内电磁场均匀性入手，提出一种改善边缘效应所产生的电磁场分布不均匀性，来提高等离子体密度分布的不均匀性，进而提高处理基处理的质量和产品的良率。

机标关键词：等离子体、反应腔、电磁场分布、不均匀性、边缘效应、体分布、处理、磁场均匀性、质量、密度分布、产品、基片

分类号：TN8;TF7

资助基金：国家863基金

在线出版日期：2015-01-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：33-33