10.3969/j.issn.1001-8972.2006.10.127
极紫外光源:极紫外光刻技术的”源头”
@@ 芯片工业这二二十年来只有一个主题:把晶体管尽量做小,把尽可能多的晶体管做到一起.任这个不变的主题下,芯片工艺不断地更新.从最开始的2微米芯片工艺逐步微缩到目前的0.15,0.13微米.
紫外光源、芯片工艺、晶体管、主题、微米、工业
O4(物理学)
2006-06-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
309,336
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10.3969/j.issn.1001-8972.2006.10.127
紫外光源、芯片工艺、晶体管、主题、微米、工业
O4(物理学)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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