ITO薄膜的微结构及其分形表征

摘要：

采用直流磁控溅射法制备氧化铟锡(ITO)薄膜,用XRD, TEM和分形理论测试和分析了不同退火时间ITO薄膜的微结构.XRD分析表明:退火时间持续增加,薄膜的晶格常数先减小后略有增大.这是薄膜中Sn4+取代Sn2+导致晶格常数减小和压应力不断释放导致晶格常数增大共同作用的结果.分形研究表明:分形维数随退火时间的延长先减小后增大,说明薄膜中平均晶粒尺寸先减小后增大,与XRD的研究结果一致.

关键词：无机非金属材料、微结构、分形、氧化铟锡(ITO)薄膜

所属期刊栏目：3

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50642038;教育部博士点专项基金资助项目20060357003;安徽省科技厅重点项目05021028;安徽省人才专项基金2004Z029;安徽大学人才队伍建设基金

在线出版日期：2008-12-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：273-277