弱刚性构件磁流变抛光变形机理与抑制技术研究

摘要：

弱刚性平面构件对应力极其敏感,加工后平面度难以保证,为解决该问题,提出通过磁流变抛光工艺改善工件的平面度.通过有限元仿真,阐明弱刚性构件磁流变抛光变形的机理,提出残余应力的不对称释放是造成工件变形的主要原因,并建立加工过程中工件变形预测模型.仿真结果表明,采用单面加工时,变形为9.5μm;采用翻面加工时,变形为0.7μm.根据仿真中工件变形的情况,提出了翻面加工的策略,并通过实验进行验证.实验结果表明,单面加工时,工件变形严重,而采用翻面加工时,变形会产生回复现象,从而使得工件平面度得到有效收敛.进而,提出了弱刚性构件磁流变修形抑制技术,即通过翻面等量材料去除实现工件表面残余应力的对称释放,并在?200 mm、厚2 mm的纯铜弱刚性平面构件上应用该技术,两个面的平面度PV值分别从4.6μm和5.9μm降低到2.0μm.

关键词：弱刚性平面构件、磁流变抛光、残余应力、平面度

所属期刊栏目：33

分类号：TH161.12

资助基金：国家重点研发计划;国家自然科学基金

在线出版日期：2022-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：2190-2196