纳米精度在位测量系统测头误差校正方法

摘要：

针对超精密机床两轴联动接触式在位测量过程中测头误差影响测量精度的问题,提出了一种测头半径误差及形状误差校正方法.进行了在位测量实验,比较分析了测头误差未校正、测头半径误差校正及测头形状误差校正三种情况的测量结果,并分别与Taylor Hobson PGI840离线测量结果进行对比,以验证测头形状误差校正方法的有效性.测头形状误差校正后,面形精度PV值由420 nm变为370 nm,与离线测量PV值380 nm的差值为10 nm.结果表明,该在位测量系统测头误差校正方法有效,能够提高在位测量精度.

关键词：超精密机床、在位测量、误差校正、纳米精度

所属期刊栏目：33

分类号：TH161.2

资助基金：国家重点研发计划;国家自然科学基金;湖南省重点研发计划

在线出版日期：2022-05-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1084-1089