P+膜制备工艺研究

摘要：

通过对浓硼扩散工艺的介绍,讨论了沉积过程中的几个重要参数,并针对扩散过程中出现的硼硅玻璃等问题,提出了可行的解决方法.

关键词：扩散、P+膜、硼硅玻璃、自停止腐蚀

所属期刊栏目：16

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2005-12-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：387-388