基于最大熵原理的平面研抛工艺参数优化

摘要：

提高光学零件研抛加工精度的关键是优选工艺参数.对此提出一种基于最大熵原理的平面研抛工艺参数优化方法.建立了工件研抛信息熵的数学表达式并给出了相关的物理解释,并对定偏心平面研抛工艺参数优选进行了数值模拟计算.研究结果表明,在定偏心平面研抛中,选择工件与研抛盘同方向等速转动可以使工件表面材料去除均匀,选择较大的偏心率可以提高加工效率,同时应实时修整研抛盘以减小研抛盘磨损对工件加工精度的影响.

关键词：最大熵原理、平面研抛、材料去除、运动熵

所属期刊栏目：16

分类号：TH161;TG580.692

资助基金：国家自然科学基金50375155

在线出版日期：2005-07-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1001-1004