离子束增强沉积CrN镀层膜基结合强度的测定

摘要：

采用球滚接触疲劳法评定不同界面共混工艺所制CrN镀层膜基结合强度,并对试验结果进行分析对比.试验结果表明,在其它参数相同的条件下,随着氮离子轰击能量从10 keV、 20 keV提高到40 keV,静反冲共混界面结合强度相应增大,而动反冲共混界面结合强度则有明显降低的趋势,较低能量(10 keV、20 keV)氮离子动态共混界面具有比其它共混界面更理想的膜基结合强度.

关键词：粒子束增强沉积、氮化铬、镀层、结合强度

所属期刊栏目：11

分类号：TG154.5(金属学与热处理)

资助基金：中国科学院资助项目59671064

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：369-372