10.3321/j.issn:1004-132X.2000.04.003
离子束增强沉积CrN镀层膜基结合强度的测定
采用球滚接触疲劳法评定不同界面共混工艺所制CrN镀层膜基结合强度,并对试验结果进行分析对比.试验结果表明,在其它参数相同的条件下,随着氮离子轰击能量从10 keV、 20 keV提高到40 keV,静反冲共混界面结合强度相应增大,而动反冲共混界面结合强度则有明显降低的趋势,较低能量(10 keV、20 keV)氮离子动态共混界面具有比其它共混界面更理想的膜基结合强度.
粒子束增强沉积、氮化铬、镀层、结合强度
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TG154.5(金属学与热处理)
中国科学院资助项目59671064
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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369-372