砷化镓芯片行业含砷废水深度处理中试研究

摘要：

某砷化镓芯片生产厂家的含砷废水经石灰-铁盐法处理后,出水中砷浓度仍有0.2 mg/L,未达到回用水的要求.采用含有活性炭三维电极的一体化除砷装置对该含砷废水进行中试规模的深度处理,结果表明,装置在药剂投加量为0.10 g/L、反应时间为60 min、pH为9的最佳条件下运行30 d后,对废水中砷的去除率基本稳定在98％以上,且出水中砷浓度低于0.005 mg/L,达到了《生活饮用水卫生标准》(GB 5749-2006),可满足回用要求.

关键词：砷化镓芯片、含砷废水、深度处理、电化学、三维电极、一体化装置

所属期刊栏目：39

分类号：TU992(地下建筑)

资助基金：绵阳市科技成果转化项目2021ZYZF3002

在线出版日期：2023-04-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：101-105