用硅粉配制含硅废水及形成动态膜试验研究
采用纯硅粉配制含硅废水来模拟半导体工业含硅废水,分析了硅粉粒度及分布,考察了配水的稳定性、动态膜的形成情况及过滤性能.结果表明:模拟含硅废水的水质稳定、重现性好;较高浓度的模拟含硅废水形成动态膜约需23 h,动态膜形成时跨膜压差小(仅2.5 kPa)、出水浊度低(0.57 NTU);通过曝气(0.8 L/min)和周期性排水(一个过滤周期约为3d)可以控制动态膜维持低压(<7.5 kPa)过滤,不需要对基膜进行清洗,动态膜运行稳定,出水浊度接近于零.实际应用中可以对定期排出的浓缩含硅废水进行脱水,从而回收高纯硅.
纯硅粉、模拟含硅废水、动态膜
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X703(一般性问题)
2016-05-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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