半导体厂含氟废水处理工程改造

摘要：

半导体生产废水中氟化物浓度较高,原有除氟工艺为二级加药[石灰、Al2(SO4)3]、二级沉淀,但出水氟化物不能达标.现将工艺调整为原水与石灰反应后即直接与Al2(SO4),反应,再沉淀,同时改善反应条件.在基本不增加总投药量的情况下,出水氟化物浓度可稳定控制在8.0mg/L左右,达到了广东省<水污染物排放限值>(DB 44/26-2001)的一级标准.

关键词：含氟废水、化学沉淀、工艺改造

所属期刊栏目：24

分类号：X703.1(一般性问题)

在线出版日期：2008-05-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：28-30