拓荆科技:在中国建立世界领先的半导体薄膜设备公司
沈阳拓荆科技有限公司是国内唯一能够生产用于大规模集成电路生产线的 12 英寸PECVD设备企业.公司自2010年成立至今,已申请专利 318项,其中发明专利220项,国际专利25项,已授权105项.形成了12英寸PECVD (等离子化学气相沉积设备)、ALD (原子层沉积设备)、3D NAND PECVD(三维闪存专用薄膜设备)的三个完整系列产品,广泛应用于集成电路、3D-TSV、光波导、LED、3D-NAND闪存、OLED显示等高端技术领域,打破了国际垄断,填补了多项国内空白.公司董事长姜谦介绍,拓荆公司不断占领市场的法宝,就是创新.
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2017-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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