一种TiAlN多层膜制备新方法

摘要：

采用自行设计制造的离子束联合溅射系统,将磁控溅射与离子注入技术相结合,在镁合金表面形成多层TiAlN强化膜.用金相显微镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、摩擦磨损仪等手段,研究了多层膜的表面形貌、结构和性能.结果表明,TiAlN膜膜表面光滑致密、孔隙率大大降低,粗糙度为42.28 nm,由TiAlN强化相组成；成膜后耐磨性有所提高,但摩擦系数变化不大,未达到减摩作用.

关键词：镁合金、磁控溅射、离子注入

所属期刊栏目：23

分类号：TG146.2+(金属学与热处理)

在线出版日期：2012-08-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：193-197