低纹波超辐射发光二极管的增透膜研制

摘要：

纹波系数是超辐射发光二极管(SLD)的关键指标,增透薄膜被用于降低纹波系数.基于平面波方法的增透膜设计得到广泛应用,然而倾斜腔面SLD中增透膜的性能普遍不佳,使用时域有限差分方法进行分析,发现存在反射曲线偏离和反射率高等问题.优化了增透膜设计,优化后1°～10°腔面倾角内的反射率降低,降幅最高达82％,其中双层增透膜反射率低于0.05％.采用反应磁控溅射工艺镀膜,并验证了优化设计效果.经过增透膜优化,光谱纹波得到有效抑制,SLD管芯纹波系数和调制系数分别仅为0.019 dB和2.30×10-3,降幅超过50％,在100 mA的驱动电流下仍保持10mW的光功率.所研制的增透膜能够有效减小腔面反射率,利用该增透膜制备了低纹波SLD.研究结果为SLD及其他半导体光电子器件的光学薄膜研制提供了参考.

关键词：薄膜、超辐射发光二极管、增透膜、倾斜腔面、优化设计、纹波系数

所属期刊栏目：50

分类号：TN364.2(半导体技术)

资助基金：国家电网公司科技项目5700-202058482A-0-0-00

在线出版日期：2023-09-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：26-35