多层介质高反膜界面电场强度调控与光散射特性

摘要：

为了降低高精密使用场合下多层介质高反射薄膜的表面散射,首先从多层介质薄膜双向反射分布函数(BRDF)出发,理论分析了双向反射分布函数与薄膜界面电场强度的关系.在入射光为正入射且中心波长632.8 nm处的反射率大于99％的要求下,采用SiO2、Ta2O5两种材料设计了膜系G/(HL)8/A和膜系G/(HL)8H/A,并分析了两种膜系界面的电场强度分布.然后以膜系G/(HL)8H/A界面的电场分布为基础对场强进一步优化,得到了膜系G/(HL)60.4L1.6H1.5L0.5H/A.理论计算了正入射条件下三种膜系的双向反射分布函数,发现当散射角为-45°～45°时,膜系G/(HL)6H0.4L1.6H1.5L0.5H/A表面的BRDF小于膜系G/(HL)8/A和膜系G/(HL)8H/A.同时计算了三种膜系表面的总散射损耗(S),与膜系G/(HL)8/A和膜系G/(HL)8H/A相比,优化膜系G/(HL)6H0.4L1.6H1.5L0.5H/A的S降低了 91.44％、37.98％.实验验证了利用膜层界面电场强度调控薄膜表面散射的有效性.

关键词：薄膜、多层设计、光散射、双向反射分布函数、总散射损耗

所属期刊栏目：49

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：陕西省教育厅重点实验室科研计划项目;陕西省自然科学基础研究计划项目

在线出版日期：2022-04-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：16-22