激光刻蚀对Ag/FTO/AZO薄膜光学和电学性能的影响

摘要：

采用不同能量密度的激光对制备的Ag/FTO/AZO多层薄膜进行光栅结构刻蚀,分析激光刻蚀后薄膜的表面形貌、光学性能和电学性能的变化,并确定薄膜获得最佳性能时的激光能量密度.结果 表明,以一定的激光能量密度对薄膜进行光栅结构刻蚀处理,不仅能有效提高薄膜的抗反射能力,还能产生附加退火作用,促使薄膜晶粒生长,减少晶界面积,从而减少晶界的光子和载流子的散射损失,提高载流子的迁移率,最终提高薄膜的透过率,优化薄膜的导电性能,实现薄膜的光学性能和电学性能的优化.

关键词：激光加工、Ag/FTO/AZO薄膜、光栅结构、光学性能、电学性能

所属期刊栏目：49

分类号：V261.8;O484.4;TB34(航空制造工艺)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;江苏大学科研课题

在线出版日期：2022-03-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：66-74