基于边缘光抑制技术的双光束激光直写纳米光刻系统

摘要：

利用边缘光抑制技术,设计并研制了一套双光束激光三维直写光刻系统.该系统含有高速扫描振镜和三维纳米压电平台两组扫描机构,可以根据不同加工需求完成多种扫描模式下的微纳结构制造.分析了光刻光束中激发光与抑制光的能量变化对加工精度的影响,通过对光刻光束能量的精确控制,实现了基板表面最小线宽为64 nm的均匀线条和线宽为30 nm的悬浮线的稳定加工,加工结构的线宽变化符合理论预期.该系统在进行实用器件加工时,最高加工产率可达到0.6 mm2/min.使用该系统加工制造了多种微纳结构,证实了其具备加工大深宽比周期结构、复杂曲线结构和不规则三维结构的能力.

关键词：激光技术、光学制造、受激发射损耗、激光直写、微纳光学器件

所属期刊栏目：49

分类号：O439(光学)

资助基金：浙江省自然科学基金重大项目;之江实验室重大科研项目

在线出版日期：2022-03-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共11页

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