光刻机环状多分区高能量利用率光瞳校正研究

摘要：

光刻机的照明光瞳性能对曝光图形质量和套刻精度均有重要影响.照明光瞳由光刻机照明系统产生,在光刻机长时间使用后,照明光瞳的性能会逐渐劣化,需要采用光瞳校正手段来改善照明光瞳的性能.本文提出一种径向环状多分区高能量利用率光瞳校正方法,该方法在径向环状多分区方法的基础上优化了常规光瞳校正方法中基准能量的选取方式,可设计出适用于多种照明模式的单一光瞳校正板.在不将光瞳性能校正至零的情况下,该方法可以使得校正后的光瞳性能满足需求,这样可减小由光瞳校正所引起的能量损失.通过对劣化光瞳的校正分析,可以发现:所提方法可将光瞳的性能校正至需求范围内,且与常规光瞳校正方法相比,其可使环形和四极照明模式的能量损失最大值分别由5.54％和3.06％降至2.06％和0.93％,这对提高光刻机的产率具有重要意义.

关键词：测量、光刻、照明系统、光瞳校正

所属期刊栏目：48

分类号：O439(光学)

资助基金：国家自然科学基金;上海市自然科学基金;上海市青年科技英才"扬帆计划"项目

在线出版日期：2021-11-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共11页

页码：52-62