快速热退火对InGaAsSb/AlGaAsSb多量子阱材料发光特性的影响
I型InGaAsSb/AlGaAsSb量子阱是1.8～3 μm波段锑化物半导体激光器的首选材料,为进一步提升分子束外延生长的InGaAsSb/AlGaAsSb量子阱材料的光学性能,本文对其进行了快速热退火处理,通过光致发光光谱研究了快速热退火对量子阱材料光致发光特性的影响.光致发光光谱测试结果表明,快速热退火会使量子阱结构中垒层、阱层异质界面处的原子互扩散,改善量子阱材料的晶体质量,促使结构释放应力,进而提高了量子阱材料的光学性能.随着退火温度升高,量子阱材料的室温光致发光谱峰位逐渐蓝移,在500,550,600℃退火后,量子阱材料光致发光谱的峰位分别蓝移了7,8,9 meV.通过变温及变功率光致发光光谱测试,确认了样品发光峰的来源,位于0.687 eV的发光峰为局域载流子的复合,位于0.701 eV的发光峰为自由激子的复合.对不同退火温度的样品进一步研究后发现,退火温度的升高降低了材料中局域态载流子复合的比例,在600℃退火温度下局域载流子与自由激子的强度比值降为500℃退火温度下的22.6％,这表明合适温度的快速热退火处理可以有效改善量子阱材料的光致发光特性.
光谱学、光致发光、InGaAsSb/AlGaAsSb、量子阱、快速热退火、局域态
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O433.4;O472+.3(光学)
国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家重点实验室基金;长春理工大学青年基金
2021-06-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共8页
188-195
