基于遗传算法的微反射镜阵列角位置分布算法

摘要：

自由光瞳照明技术是28 nm及以下节点浸没光刻机中一种重要的光刻分辨率增强技术,其通过微反射镜阵列(MMA)调整光束的角谱来实现任意照明模式,MMA角位置分布对自由光瞳照明技术的应用具有重要的意义.提出了基于遗传算法的MMA角位置分布算法,该算法相比基于模拟退火算法的MMA角位置分布算法,迭代速度提高了10倍以上,并且该算法得到的MMA角位置分布可精确复现目标光瞳强度分布.光刻性能仿真结果表明,对于数千种光刻胶曝光图形,算法光瞳和目标光瞳的光刻胶曝光图形不对称性分布的方均根(RMS)值基本一致,关键尺寸差异分布RMS值均小于0.5 nm.

关键词：测量、浸没光刻机、自由光瞳照明、微反射镜阵列、角位置分布算法

所属期刊栏目：47

分类号：O439(光学)

资助基金：上海市国际科技合作项目;上海市科技人才计划

在线出版日期：2020-09-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：189-197