阵列波导光栅解复用器的偏振相关损耗的优化
对硅基二氧化硅阵列波导光栅解复用器(AWG DEMUX)的偏振相关损耗(PDL)进行了优化.理论分析了引起AWG偏振相关性的物理因素以及消除偏振相关性的工艺方法和条件.利用化学气相沉积、光刻和刻蚀等半导体工艺制备了AWGDEMUX芯片,并结合理论分析对包层材料中的硼(B)、磷(P)含量进行了优化调整,成功地将芯片的PDL降低至0.12 dB,使PDL参数满足芯片的商用化需求.
光通信、阵列波导光栅、解复用器、偏振相关损耗
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TN256(光电子技术、激光技术)
2020-05-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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