真空环境中脉冲激光烧蚀制备纳米银晶薄膜的生长特性

摘要：

采用XeCl准分子脉冲激光,在室温、真空环境下烧蚀银靶,通过改变激光能量密度和靶衬间距,在与靶面平行放置的Si(111)衬底上沉积了一系列纳米银晶薄膜.利用扫描电镜以及X射线衍射仪、选区电子衍射技术对薄膜进行表征,结果表明:薄膜由不同尺寸的银纳米晶粒组成;在固定激光能量密度的条件下,随着靶衬间距增加,薄膜的厚度和晶粒尺寸逐渐减小,晶粒间的聚合程度减弱,薄膜(111)晶面的XRD特征谱线强度减弱,(200)晶面的特征谱线强度增强;在固定靶衬间距的条件下,随着激光能量密度的增大,薄膜的厚度和晶粒尺寸逐渐增大,晶粒间的聚合程度增强,薄膜(111)晶面的特征谱线强度增强,(200)晶面的特征谱线强度略有减弱.结合晶粒成核和传输特性、烧蚀粒子迁移率,以及薄膜沿不同晶面生长所需表面能存在差异的情况,对实验结果进行了分析.

关键词：激光技术、脉冲激光烧蚀、成核、薄膜生长、表面能

所属期刊栏目：46

分类号：O436(光学)

资助基金：河北省自然科学基金A2018201249;河北省研究生创新资助项目CXZZBS2017024

在线出版日期：2019-11-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：139-145