基于椭偏成像光路和表面等离子体共振效应的金属薄膜参数测量方法研究
提出了一种基于椭偏成像光路和表面等离子体共振效应的金属薄膜参数测量方法,在椭偏成像光路中采用p偏振光在金属薄膜与空气界面产生表面等离子体共振效应,利用不产生表面等离子体共振效应的s偏振光消除背景光的影响,得到表面等离子体共振吸收环垂直方向的归一化反射率曲线,数值拟合获得待测金属薄膜的薄膜参数,这种方法不需要求解椭偏方程,数据处理过程简单,求解速度快.实验中,基于该方法的测量结果与标准椭偏仪的测量结果基本一致,很好地验证了该方法的有效性.
测量、金属薄膜参数、表面等离子体共振效应、椭偏成像光路
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O439(光学)
国家国际科技合作项目2012DFG51590,2011DFR10010、国家科技重大专项2011ZX02402
2015-12-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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