利用海森堡不确定性原理研究全反射X射线光学器件的焦斑极限

摘要：

全反射X射线光学器件在X射线显微技术中具有重要的应用,有关其焦斑极限的研究对该器件的设计者和使用者具有指导意义.利用海森堡不确定性原理研究了全反射X射线光学器件的焦斑极限.理论结果表明:全反射X射线光学器件的焦斑极限与器件的材料有关;利用镍金属、铅玻璃和硼硅酸盐玻璃制成的全反射X射线光学器件的焦斑极限分别为3.2、4.2和6.6 nm.

关键词：X射线光学、焦斑极限、海森堡不确定性原理、全反射X射线光学器件

所属期刊栏目：40

分类号：O434.1(光学)

资助基金：国家自然科学基金11075017,11375027;中央高校基本科研业务费专项资金2012LZD07;北京市优秀人才培养项目2010C009012000005

在线出版日期：2014-01-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：262-264