光刻对准中掩模光栅标记成像标定方法

摘要：

双光栅叠栅条纹对准方法具有精度高、可靠性强等特点,适用于接近接触式光刻.为了实现高精度测量,实际应用中要求掩模光栅标记与硅片光栅标记高度平行.掩模光栅标记在CCD中成像通常存在一定的倾斜角.由此,在已提出的相位斜率倾斜条纹标定方法上,提出了一种改进方法.该方法充分利用掩模光栅45°和135°两个方向的相位信息标定CCD的成像位置,以实现掩模光栅条纹的标定.对比两种方法分析表明,改进后的方法具有倾角测量范围大、抗噪性强、精度高等优点,理论极限精度优于0.001°量级.

关键词：光栅、掩模光栅、光刻对准、角度标定、叠栅条纹

所属期刊栏目：40

分类号：O436.1(光学)

资助基金：国家自然科学基金60976077,61076099资助课题

在线出版日期：2013-03-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：187-191