355nm激光作用下Si(CH3)4分子的MPI质谱研究

摘要：

在355 nm的激光作用下,利用扩散分子束技术和四极质谱装置相结合研究了气相Si(CH3)4分子多光子电离(MPI)质谱分布.测量了Si(CH3)+4,Si(CH3)+3,Si(CH3)+2,Si(CH3)+及Si+离子的激光光强指数,检测了这5种碎片离子的信号强度占总信号强度的分支比随光强的变化关系.据此,讨论了该分子MPI过程可能经历的通道,得到了Si+主要来自于母体分子的多光子解离-硅原子的电离,Si(CH3)+n(n=1,2,3)主要来自于中性碎片Si(CH3)n(n=1,2,3)的自电离,Si(CH3)+4来自于母体分子的(3+1)电离的结论.

关键词：四甲基硅、多光子解离电离、多光子电离解离、反应动力学、质谱

所属期刊栏目：29

分类号：O657.63(分析化学)

在线出版日期：2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：218-222