10.3321/j.issn:0258-7025.2000.07.011
类镍钽离子碰撞激发机制理论研究
对类Ni-Ta离子电子碰撞激发机制产生4d→4p跃迁三条激光线的增益与反转进行了探讨.首先研究了类Ni离子基态与类Co离子基态对这三条激光线上、下能级的激发与复合贡献因子及由激发产生的反转率和由复合产生的反转率;讨论了类Ni离子与类Cu离子电离速率对类Ni离子布居弛豫时间和布居大小的影响.研究结果表明,考虑光子捕获效应及激光折射效应后,4.483 nm激光线的最佳增益区域在Te≈1~1.5 keV,Ne≈(1~4)×1021 cm-3.
类Ni-Ta离子电子碰撞激发机制、自电离与双电子俘获(A&C)、光子捕获效应
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TN2(光电子技术、激光技术)
2008-08-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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