10.3969/j.issn.1003-8965.2015.05.018
退火处理对某种工艺条件制备的ITO薄膜光电性能影响
退火处理是一种常用的后续性能改善的方法,本文主要通过在不同温度下对某工艺制备的ITO薄膜样品进行退火处理,研究这一方法对该ITO薄膜光电性能的影响。
ITO薄膜、退火处理、光电性能
O484(固体物理学)
2015-11-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
43-45
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10.3969/j.issn.1003-8965.2015.05.018
ITO薄膜、退火处理、光电性能
O484(固体物理学)
2015-11-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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