退火处理对某种工艺条件制备的ITO薄膜光电性能影响

摘要：

退火处理是一种常用的后续性能改善的方法，本文主要通过在不同温度下对某工艺制备的ITO薄膜样品进行退火处理，研究这一方法对该ITO薄膜光电性能的影响。

关键词：ITO薄膜、退火处理、光电性能

分类号：O484(固体物理学)

在线出版日期：2015-11-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：43-45