玻璃基板上低辐射涂层的制备及性能研究

摘要：

采用喷雾热解工艺在500×500mm的玻璃基板上制备了氟锑复合掺杂的氧化锡薄膜,对影响喷雾热解镀膜工艺的三个主要参数:气氛流场,基板温度和液流量进行了研究.实验发现采用双侧排气可以提高镀膜的均匀度和沉积效率,减少薄膜的表观缺陷;升高温度可以提高薄膜的晶化程度;调节液流量大小可以改善薄膜的表面形貌;制备的低辐射玻璃样品透过率为76%,辐射率为0.20,表现出良好的低辐射性能.

关键词：喷雾热解、低辐射、玻璃

所属期刊栏目：15

分类号：TQ17

在线出版日期：2006-08-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：103-106