磁控溅射工艺对CrN薄膜及其腐蚀行为的影响
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.11902/1005.4537.2019.156

磁控溅射工艺对CrN薄膜及其腐蚀行为的影响

引用
通过磁控溅射技术制备了CrN薄膜,使用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等方法研究了N2分压、溅射功率以及夹杂物数量对CrN薄膜结构、成分、耐蚀性能的影响.结果 表明,提高N2分压能增加CrN相的含量,且CrN基体有明显的(111)和(200)面取向;降低溅射功率有利于使更多的Cr参与反应,生成更多的CrN.此外,夹杂物数量对薄膜质量有重大影响,夹杂物处不易镀上膜导致其耐蚀性明显下降.

304不锈钢、磁控溅射、镀膜、腐蚀

39

TG172(金属学与热处理)

国家重点研发专项2017YFB0702300;国家材料环境腐蚀平台2005DKA10400;国家自然科学基金51671029

2019-11-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共8页

423-430

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

中国腐蚀与防护学报

1005-4537

21-1474/TG

39

2019,39(5)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn