γN相在硼酸溶液中钝化膜的组成及其半导体特性研究

摘要：

采用等离子体源渗氮技术在AISI 304L奥氏体不锈钢表面制备高氮面心结构的γN相层.利用AES和XPS分析了γN相层在pH值为8.4的硼酸溶液中钝化膜的化学组成,借助Mott-Schottky方程分析了γN相层钝化膜的半导体特性.结果表明:γN相层钝化膜具有双层结构,外层由Fe、Cr氢氧化物和氧化物构成,呈现出n型半导体特性;内层主要以Cr2O3为主,呈现出p型半导体特性,并且N以FeNx和CrNx形式存在于钝化膜内.与原始不锈钢钝化膜相比,γN相层钝化膜内施主浓度和受主浓度更低,平带电位负移,说明其钝化膜致密性更好,腐蚀速率更低.

关键词：等离子体源渗氮、高氮顽心立方相、钝化膜、耐蚀性能、半导体特性

所属期刊栏目：38

分类号：TG156.8;TG172.1(金属学与热处理)

资助基金：营口理工学院科研基金项目QNL201709

在线出版日期：2018-05-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：47-53