WBE技术研究水线区破损涂层的剥离机制-Ⅱ
应用阵列电极(WBE)联合电化学阻抗谱(EIS)技术,研究了气/液界面水线处破损涂层在3.5％(质量分数)NaCl溶液中的水线区破损涂层剥离行为.对比涂层剥离过程的腐蚀电流密度和阻抗谱分布行为,探讨了破损涂层在水线区的剥离机制.结果表明,涂层破损区和固有缺陷区均能够加速附近涂层阴极剥离过程.水线区破损涂层剥离行为特征为,破损区和固有缺陷区附近涂层首先发生阴极剥离,进而向外部涂层/金属晃面扩展.此外,研究发现,破损区位于水线上方和下方时,其推动阴极剥离能力不同,即,加速水线下方涂层剥离作用弱于水线上方区域,致使水线及水线上方涂层剥离速率明显大于水线下涂层剥离速率.其原因显然与阴极剥离区溶解氧含量有关,即富氧区阴极剥离扩展速率大于乏氧区阴极剥离速率.
阵列电极、水线区、涂层剥离、电流分布、阻抗谱
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O646(物理化学（理论化学）、化学物理学)
国家自然科学基金项目21203034Supported by National Natural Science Foundation of China 21203034
2017-09-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共7页
322-328
