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Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层电化学阻抗谱研究

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以正硅酸乙酯(TEOS)、甲基三乙氧基硅烷(MTES)、二苯基二甲氧基硅烷(DDS)和仲丁醇铝(ASB)为主要原料,采用溶胶-凝胶法得到Al2O3/有机硅/SiO2杂化溶胶,经100℃下固化12h后得到Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层.红外光谱研究表明,杂化涂层中形成了Al—o—Si键.采用电化学阻抗(EIS)研究杂化涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的阻抗行为,根据阻抗谱特征建立了等效电路图,结合等效电路图和拟合结果分析了杂化涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的耐蚀性.结果表明,其在3.5%NaCl溶液中具有良好的耐蚀性.

溶胶-凝胶法、Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层、电化学阻抗谱

33

TQ631.2

国家自然科学基金项目51161022

2014-02-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

527-531

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33

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