新型细晶Ni3Al涂层的高温氧化行为

摘要：

采用Ni和Al颗粒复合电沉积与后续真空退火的方法，分别于600℃和800℃退火温度下制备了两种新型细晶Ni3Al涂层。与粗晶合金相比，经1000℃氧化20h后，合金的氧化层发生大面积剥落，而两种涂层的氧化膜粘附性佳，其主要原因为细晶涂层内的大量晶界促进Al向氧化前沿的扩散，从而抑制了氧化膜／基体界面处“Kirkendall”孔洞的形成与长大。同时发现，800℃退火涂层氧化膜结构由外至内分别为NiO／NiAl2O4／Al2O3，而600℃退火涂层仅生成NiAl204与Al2O3，对该原因进行了探讨。

关键词：氧化、细晶、复合电沉积、退火、孔洞

所属期刊栏目：31

分类号：TG172(金属学与热处理)

在线出版日期：2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：414-418