10.3969/j.issn.1005-4537.2009.05.008
TMA对熔融盐中铝镀层结构及耐蚀性的影响
在摩尔比为0.66:0.17:0.17的AlCl3-NaCl-KCl共融盐中添加表面活化剂四甲基氯化铵(TMA),接通直流电在铁片上获得了Al镀层.用扫描电子显微分析、X射线衍射分析和极化曲线等技术测试镀层的表面形貌、相结构及耐腐蚀性能,并用循环伏安法研究添加TMA对Al电沉积机理的影响.研究表明,添加1.0 mass%TMA时,电镀电流效率高达93.6%;纯氯化物熔盐中所得Al晶粒呈针状,为(200)面高择优取向的面心立方结构,添加TMA后获得的Al晶粒细化且形状不规则,呈无序晶面取向.添加TMA后,Al镀层的点腐蚀电位提高了0.12 V,同时增加了电沉积反应的不可逆程度,利于Al在熔融盐中的电镀.
四甲基氯化铵、AlCl3-NaCl-KCl、熔融盐、铝镀层、晶体取向、耐蚀性
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TQ153.2
国家科技支撑项目2006BAE03B03
2009-12-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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