四氧化二氮对卫星漫反射试片氟化镁涂层的污染和侵蚀

摘要：

利用漫反射率、X射线光电能谱和质谱等测量方法,研究了固态和气态四氧化二氮(N2O4)对漫反射试片氟化镁(MgF2)涂层表面的污染情况.实验表明,固态N2O4对MgF2涂层有严重侵蚀作用,N2O4固粒污染后的涂层表面漫反射率下降了20%～30%.在一定的时间内,气态N2O4对涂层表面的影响显著地依赖它的压力.试片在压力为6.9×104 Pa和200Pa的N2O4蒸气中分别放置10 min,前者厚度为40μm的MgF2涂层基本消失,表面漫反射率下降约20%;后者涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小.还给出了MgF2涂层表面N2O4分子吸附摩尔密度,以及与涂层表面碰撞的N2O4分子通过化学吸附过程提取MgF2的几率.

关键词：N2O4、漫反射试片、MgF2涂层、表面污染

所属期刊栏目：25

分类号：TG172.3+2(金属学与热处理)

资助基金：中国科学院资助项目10402042

在线出版日期：2005-05-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：70-73,83