高品质金刚石膜微波等离子体CVD技术的发展现状

摘要：

金刚石膜拥有许多优异的性能。在制备金刚石膜的各种方法之中，高功率微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）法因其产生的等离子体密度高，同时金刚石膜沉积过程的可控性和洁净性好，因而一直是制备高品质金刚石膜的首选方法。在世界范围内，美、英、德、日、法等先进国家均已掌握了以高功率MPCVD法沉积高品质金刚石膜的技术。但在我国国内，高功率MPCVD装备落后一直是困扰我国高品质金刚石膜制备技术发展的主要障碍．首先综述国际上高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术的发展现状，包括各种高功率MPCVD装置的特点。其后，回顾了我国金刚石膜MPCVD技术的发展历史，并介绍北京科技大学近年来在发展高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术方面取得的新进展。

关键词：MPCVD金刚石膜沉积技术、高品质金刚石膜

所属期刊栏目：31

分类号：TB79;TQ164(真空技术)

资助基金：国家自然科学基金10675017;国际科技合作项目2010DFR50130

在线出版日期：2012-10-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：33-39