电子束蒸发与磁控溅射制备Al/PI复合薄膜的性能研究
利用磁控溅射法和电子束蒸发法在聚酰亚胺(PI)薄膜基底上沉积了铝功能膜.测试了两种方法薄膜的膜厚、附着力、反射率、折射率和电导率.结果表明,磁控溅射法制备的铝膜的综合性能较电子束蒸制备的铝膜的性能优越.
电子束蒸发、磁控溅射、Al/PI膜、性能
27
O484.4+1(固体物理学)
国防基础科研项目;济南市科技攻关计划
2012-03-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
21-24
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电子束蒸发、磁控溅射、Al/PI膜、性能
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O484.4+1(固体物理学)
国防基础科研项目;济南市科技攻关计划
2012-03-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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