高纯钛靶表面处理技术开发

摘要：

@@ 高纯钛溅射靶现在已广泛应用于半导体装置制造的金属镀工艺中,日本的日矿材料公司生产高纯钛溅射靶、铜、钽、钴、钨、镍等高纯金属以及合金靶、钛硅化物靶等,供给全世界的半导体厂家.

机标关键词：纯钛、表面处理、溅射靶、半导体厂、钛硅化物、高纯金属、合金靶、装置、制造、生产、日本、供给、公司、工艺、材料

所属期刊栏目：23

分类号：TM5;TL5

在线出版日期：2012-03-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：40-41