PECVD喷淋板上微通道结构对射流均匀性的影响性分析

摘要：

喷淋板微通道结构对等离子体增强化学气相沉积镀膜工艺成膜均匀性具有重要影响,目前缺少对不同微通道差异性的研究.通过采用滑移边界修正的连续流计算方法,获得克努森数为0.009～ 0.01的微通道流动特性结果,计算结果与其他微通道试验与计算结果具有一致性.结果表明,等径型与收缩型微通道几何尺寸对均匀性影响较小,出口射流所形成的涡流会降低均匀性,扩张型微通道提高出口扩散性,其射流均匀性明显优于前两者.通过提出均匀性量化方法,研究等径型、收缩型和扩张型三种具有代表性的微通道结构,进一步完善了喷淋板及稀薄环境微通道研究的不足.

关键词：微通道、射流均匀性、均匀性量化、扩张腔、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)

所属期刊栏目：36

分类号：O356(流体力学)

在线出版日期：2023-11-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共12页

页码：222-233