脉冲频率对HiPIMS制备TiN薄膜组织和力学性能的影响

摘要：

为探究脉冲频率对通过高功率脉冲磁控溅射制备TiN薄膜组织力学性能的影响,选用Ti靶和N2气体,采用反应磁控溅射技术通过改变高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)电源脉冲频率在Si(100)晶片上制备不同种TiN薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪和扫描电子显微镜(SEM)对所制薄膜晶体结构和成分、表面和断面形貌进行分析,利用纳米压痕仪对薄膜的硬度和弹性模量进行表征,并计算H/E和H3/E2.结果表明,高离化率Ti离子轰击促使薄膜以低应变能的晶面优先生长,所制TiN薄膜具有(111)晶面择优取向.薄膜平均晶粒尺寸均在10.3 nm以下,随着脉冲频率增大晶粒尺寸增大,结晶度和沉积速率降低,柱状生长明显,致密度下降,影响薄膜力学性能.在9 kHz时,TiN薄膜的晶粒尺寸可达8.9 nm,薄膜组织致密具有最高硬度为30 GPa,弹性模量374 GPa,弹性恢复为62.9％,具有最优的力学性能.

关键词：高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)、脉冲频率、TiN薄膜、微观组织、力学性能

所属期刊栏目：35

分类号：TB383;TG174(工程材料学)

资助基金：甘肃省科技支撑;中国科学院青年创新促进会项目

在线出版日期：2023-04-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：192-199