O2/Ar流量比及退火对氧化锆薄膜结构及摩擦学性能的影响

摘要：

采用多弧离子镀(MAIP)方法在Inconel 718高温合金基体上沉积了氧化锆(ZrOx)薄膜,并对该薄膜进行了800 ℃退火处理;研究了O2/Ar两种气体流量比Ro2/Ar(0.25、0.43、0.67、1.00、1.50)及退火处理对沉积态薄膜的微观结构、力学性能及摩擦学性能的影响.结果表明:随着Ro 2/Ar从0.25升高到1.50,沉积态薄膜的主要物相组成由不稳定的锆的氧化物(h-ZrO0.35、h-ZrO2、h-Zr3O)逐渐转变为稳定的m-ZrO2,薄膜截面结构由起初疏松的柱状晶逐渐转变为排列致密的柱状晶,薄膜硬度逐渐升高,O2/Ar比为1.50时最大为16.7 GPa.低Ro2/Ar,下沉积的薄膜摩擦学性能很差,很快磨穿失效.当Ro2/Ar,超过0.67时,薄膜的摩擦寿命显著提高,Ro2/Ar为1.50时薄膜磨损率最低为1.45×10-6 mm3/(N·m).沉积态薄膜经过退火处理后主要物相转变为m-ZrO2,薄膜表面变得更加光滑致密,薄膜硬度、弹性模量以及摩擦学性能均较退火前明显改善.

关键词：多弧离子镀、氧化锆薄膜、退火处理、力学性能、摩擦学性能

所属期刊栏目：33

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金51975561

在线出版日期：2021-04-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：65-74