氟化钇薄膜的低温红外光学性能

摘要：

采用离子束辅助电子束蒸发方法在硒化锌基底上制备氟化钇(YF3)单层650 nm薄膜样品,基于其空间低温应用环境,利用液氮杜瓦及傅里叶变换红外光谱仪建立的薄膜材料变温光学测试系统,测试了薄膜样品在80～300 K温度条件下,在1～15 μm波长范围的光谱透射率.基于该测试结果,利用全光谱反演拟合方法对YF3薄膜在低温下的折射率变化情况进行了研究.结果 表明,YF3薄膜折射率均随波长增大而减小,且在不同温度下变化趋势基本相同.基于Cauchy色散公式得到了YF3薄膜在低温下的折射率与波长及温度的关系表达式,其折射率温度系数dn/dT约为6.95×10-4K-,对在任一低温下YF3薄膜折射率快速计算提供了一个较好的方法.最后通过比较该公式得到的在300K与80 K温度下的设计值与实际测量值的结果验证了该折射率计算表达式的准确性.

关键词：光学薄膜、氟化钇薄膜、折射率系数、低温光学性能

所属期刊栏目：32

分类号：O484.41(固体物理学)

资助基金：国防基础科研项目;国家自然科学基金

在线出版日期：2020-08-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：151-155